La Chine bientôt capable de produire en 28 nm avec un scanner lithographique maison !

Face aux sanctions, la Chine n’a fait que redoubler d’efforts pour être autosuffisante, notamment en matière de production de semiconducteurs. De ce fait, alors que les entreprises chinoises sont désormais (théoriquement ?) presque totalement empêchées d’exploiter matériels et technologies (partiellement ou pleinement américaines) de pointe, y compris pour la production de puces en 14/16 nm, les espoirs reposent sur les avancées des acteurs locaux en matière de développement d’outils de production, comme ceux de Shanghai Micro Electronics Equipement (SMEE). Sponsorisé par le gouvernement, ce dernier a été fondé en 2002 et est à ce jour le fabricant chinois de scanners lithographiques qui a le mieux réussi et justement, il a récemment encore rappelé son intention de livrer avant la semaine prochaine son premier scanner DUV capable de produire en 28 nm : le SSA/800-10W !

Cette nouvelle annonce fait suite à celle d’aout, pendant lequel SMEE avait fait part d’une "percée" significative en matière de lithographie et notamment que sa nouvelle machine pour un 28 nm vraiment local allait arriver encore avant la fin de 2023. Pour la petite anecdote, le scanner en question avait déjà été annoncé en 2020 et était initialement programmé ("espéré" serait peut-être plus juste) pour 2021. Visiblement, y’a eu pas mal de retard en chemin. Des années de mesures anti-COVID très strictes et d’accumulation de sanctions n’ont probablement pas aidé, mais la complexité du travail certainement non plus. À l’époque, le SSA/800-10W était présenté comme étant construit sans technologie ni matériaux américains et le fruit d’un assemblage de composants chinois et japonais. Est-ce toujours le cas ? Nous n’en savons rien.

Le SSA/800-10W sera-t-il capable de se combler le vide laissé par l’absence d’arrivées de nouvelles machines de chez ASML, Canon ou Nikon et d’aider la Chine à réduire encore un peu sa dépendance technologique ? C’est surement l’objectif, en plus d’arriver peut-être à concurrencer les acteurs susmentionnés à terme sur certains segments de l’équipement lithographique, mais il n’est pas très clair si SMEE à actuellement réellement la capacité d’en fabriquer en grande quantité pour progressivement l’intégrer au parc existant. Le cas échéant, les producteurs de puces devront aussi adapter leur production à la nouvelle machine, ce qui demandera inévitablement aussi un certain temps. L’avenir nous le dira. Nous en apprendrons probablement plus lors de l’annonce officielle définitive du SSA/800-10W qui ne saurait donc plus tarder.

Il y a fort à parier que SMIC sera l’un des premiers fondeurs chinois à en bénéficier, voire certains centres de recherche en semiconducteur. Certes, ce n’est pas un scanner pour un procédé aussi mature que le 28 nm qui aidera SMIC à progresser avec son 12/14 nm, ou YMTC avec son 7 nm ou sa NAND 3D 232 couches, mais ça n’en reste pas moins une avancée notable (et impressionnante, compte tenu du contexte), la meilleure machine de série 600 de SMEE pouvant à ce jour faire au mieux du 90 nm. Bref, c’est une belle progression et il ne fait aucun doute que la suite n’en sera pas moins intéressante ! (Source : Tom's)